ENVIRONMENT
Technology for Human life
Reference
SK하이닉스 Fab 반도체 장비내 유해가스 모니터링
본문
1) 사업 내용 : 반도체 생산공정에 NH3, HF, HCL, O2, NHO3 측정
2) 사업 기간 : 2018년 09월 ~ 2018년 11월
3) 특이 사항 : 반도체 생산공정에 NH3, HF, HCL, O2, NHO3 측정
